 |
| 
-------------------------------------------------------------------------------
From : Alexey Novak 2:5025/5.21 Птн 18 Апр 97 20:24
To : Serge Tolmachev Пон 21 Апр 97 22:26
Subj : Травление плат
-------------------------------------------------------------------------------
Пpиветствую тебя, Serge!
ST> Слышал есть технология изготовления печатных плат, при которой
ST> рисунок наносится фотоспособом (изготавлиается фотошаблон и т.д.).
ST> Может кто-то делал платы подобным образом или знает как это
ST> делается?
ST> Буду очень рад, если кто-нибудь расскажет об этом.
Вообще-то для такого производства существуют специальные твердые
фоторезисты и соответствующие проявители. Однако я использовал
то, что было... Подобные вещи в свое время делал практически
"на коленях". Для этого необходимо:
1. Фоторезист. Поскольку я был связан с микроэлектронной промышленностью,
то использовал тот, который шел на производство ИМС. Бывает он позитивный
и негативный. Hегативный под действием света (УФ) образует нерастворимый
участок на поверхности платы, позитивный - наоборот. То есть от типа
фоторезиста зависит, какой фотошаблон тебе нужен - негатив или позитив.
Лучше работать с негативом и, соответственно, с негативным фоторезистом
(зачем тебе еще одна дополнительная пересъемка шаблона). Конкретная
марка резиста, который я использовал - ФH-51. Достаточно вязкий. Можно
использовать и старый, уже загустевающий резист, разведя его
диметилформамидом (ну снизится у тебя разрешающая способность и
светочувствительность, ну и что? Ведь не микропрочессоры с микронным
разрешением делаешь).
2. Проявитель. Обычная щелочь (NaOH - едкий натр). 15-20% раствор.
3. Травитель для платы. Я, вообще-то не очень любил хлорное железо.
Медленно работает, даже подогретое. Использовал HCl + H2O2 (перекись
водорода) + воду. Скорость травления можно подобрать "на глаз".
HCl (концентрированную) разводим таким же количеством воды, потом
_медленно_ добавляем перекись. Плата травится за 1-3 минуты,
подтравов не бывало.
Теперь технология. Обезжириваем плату. Тампоном наносим резист, наклоняем
плату, даем ему стечь. Hеобходимо получить более-менее ровный слой.
Сушим резист при 80 градусах минут 10. Наклеиваем шаблон, экспонируем.
Можно экспонировать галогенными фотолампами (не ближе 1-1,5 м), либо
вообще на солнышко вынести. Hормально засвеченный резист менят угол
поляризации падающего на него света, то есть когда надо заканчивать
экспозицию, ты увидишь, чуть отодрав шаблон. Далее - проявление.
Обычно достаточно 2-3 минут. Потом - задубливание резиста при температуре
90-120 градусов 30 минут. А дальше уже травление, как обычно.
Задубленый фоторезист потом удаляешь в конц. щелочи или серной кислоте.
Все! А потом уже лудишь или там серебро наносишь, и т.д. Кстати, потом
в моем КБ так стали промышленно делать печатные СВЧ-микросборки на
поликоре и кварце. Отлично получалось.
Пока! Пиши!
Alexey
* Origin: Russian Cybernetics (2:5025/5.21)
| |
| |